Et særligt område i DTU Danchips faciliter er dedikeret til produktion af enheder med opto-elektriske egenskaber, f.eks. lasere. DTU Danchip tilbyder adgang til en III-V proceslinje som gør det muligt at producere optisk teknologi. Vi giver renrumsbrugerne adgang til epitaksianlæg til vækst af III-V halvledere.
III-V laboratoriet giver adgang til en bred vifte af processer, herunder fotolitografi, våd- og tør-ætsning, materialedeponering og karakteriseringsværktøjer. Se den komplete liste over III-V udstyr, som forefindes i laboratoriet.
Selvom udstyrssortimentet i DTU Danchip III-V laboratorie er omfattende, kan der være store gevinster at hente ved at kombinere III-V teknologi med andre processer i DTU Danchips renrum. Et eksempel er elektronstrålelitografi, hvor DTU Danchip sammen med DTU Fotonik og DTU Nanotech har foretaget målrettede investeringer, som giver mulighed for fremstilling af fotoniske bandgap-strukturer med banebrydende egenskaber til manipulation af lys.